氟甲烷，也称为一氟甲烷、甲基氟、HFC-41，主要用在、电子科技类产品等领域。氟甲烷在半导体工业中可作为氮化膜的刻蚀气体，用于3DNAND闪存的制造。高纯氟甲烷对硅化物薄膜的刻蚀选择性好，在射频场下会溶解氟离子，进行反应性离子蚀刻。
半导体普遍应用于计算机、消费类电子、网络通信、汽车电子等领域。中国是全球最大的电子科技类产品制造基地，近十余年来，随着半导体产业同时迈入后摩尔时代与后PC时代，全球半导体市场增速明显放缓。与此同时，伴随着中国经济的快速地发展，中国对半导体产品的需求大幅度的增加，此消彼长之下，中国已成为带动全球半导体市场增长的主要动力，多年来市场需求均保持迅速增加，以中国为核心的亚太地区在全球半导体市场中所占比重快速提升。
目前，中国慢慢的变成了半导体市场需求规模全球第一的国家。2018年，我国半导体制造业需求规模达11076亿元，但国内产值仅为1362亿元，市场供给缺口极大。未来一段时间内，我国半导体产业仍将保持快速地发展的态势，半导体存储芯片国产化进程也将进一步加快，成为氟甲烷市场需求量开始上涨的主要推动力。
新思界产业研究中心发布的《2019-2023年中国氟甲烷行业市场行情监测及未来发展前途研究报告》显示，2014-2018年，我国氟甲烷需求规模呈现高速增加的态势，复合增长率达14%。虽然需求规模增长迅速，但整体需求规模仍然较小，不到2亿元，我国氟甲烷企业也主要以出口贸易为主，因此我国氟甲烷需求市场仍有待培育。
我国半导体进口替代是大势所趋，在此情况下，半导体芯片制造企业将在数量及生产规模上逐步的提升。新思界产业研究员表示，在半导体芯片行业加快速度进行发展的态势下，未来我国氟甲烷需求仍将快速增加，预计到2022年我国氟甲烷需求规模将达3亿元。现阶段，我国半导体企业大多分布在分布在长三角、珠三角和京津环渤海地区，这些地区是国内氟甲烷企业重点开发区域，未来也仍将是氟甲烷行业重点开发区域。
